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低炭素社会の実現に向け製品化が加速しているSiCパワーデバイス。
東横化学は独自の超高温熱処理技術を応用し2000年からSiCパワーデバイス装置の開発に取り組み、その長年培った技術と最先端技術を結集、高品質、高性能な熱処理性能を実現しました。
当社“Ailesic”(エールシック)シリーズ熱処理装置は、SiCパワーデバイスの性能を飛躍的に向上させるとともに安定した量産に貢献します。
CMP(Chemical Mechanical Polishing)プロセスは半導体製造において、まさに欠かすことのできない主要な技術です。
当社はこれまでCMPプロセスに係わるスラリー供給装置および薬液供給装置を製造販売し、長年そのノウハウを培ってきました。
Brooks社のFOUP/キャリア洗浄機はキャリア、ボックス、SMIF POD、RSPから300/450mm用のFOUP、FOSB、MACまで、あらゆるタイプのワークを洗浄、乾燥可能です。
セミオートタイプのM300、フルオートタイプのM800、450mm対応のM450と多様なラインナップを持ち、全世界で200台以上の納入実績を誇り、お客様の製造現場で高く評価されております。
ALD装置はAtomic Layer Deposition Systemの頭文字を取ったもので、原子層堆積装置のことです。 一原子層毎の精密な成膜プロセスで使用します。
成膜チャンバーと制御電源部を一体化することにより、小型軽量化を実現したデスクトップ型ALD装置 SAL1000と、傾斜、回転、振動機構を装備しており粉体を撹拌することで粉体全面への成膜を可能にした粉体用ALD装置 SAL1000Bがあります。