高感度質量分析装置 ASTON Impact (アストン インパクト）

「ASTON Impact」は、ガス分析に特化したプロセスガスモニタリングに好適な高感度質量分析装置です。
コストパフォーマンスと使い勝手を追求した電子イオン化イオン源モデルです。

省スペースで、大気圧領域からガスをモニタリングすることができます。

小型ながらm/z285 まで拡張したマスレンジに加え、プロセスガスモニタリングの質量分析装置としては、他社を凌ぐ高感度測定に成功しました。
電子イオン化イオン源、二次電子増倍管を搭載した四重極型の小型センサーと、ポンプをパッケージングした省スペース設計になっています。

1.はじめに

半導体製造プロセスでは、Chemical Vapor Deposition(CVD)方が多用されています。酸化膜や金属膜などを形成する工程が多く含まれます。
CVDでは、チャンバー内壁への固体状の堆積物の蓄積や、これによるパーティクルの発生がプロセスに大きな影響を与えます。
このため、成膜頻度に応じたチャンバークリーニングが必要となります。
通常、チャンバークリーニングは、終点を考慮した経過時間で管理されています。

2.試験方法

1.CVD装置にステンレス製パイプでバルブとASTON Impactを接続します。
2.クリーニングプロセスを開始し、ASTON Impactの測定を開始します。
3.反応生成物とクリーニングガスのトレンドをモニタします。

システム構成

1.はじめに

質量分析計では、目的に応じて様々なガス分子を測定しますが、測定対象が微量成分の場合、検知が困難な場合があります。
ガス分子の質量分析では、空気中に含まれる微量成分（表1）を測定し、質量分析装置の性能を評価します。

2.試験方法

1.空気を質量分析装置ASTONに導入します。 　
2.ASTONの測定を開始し、目的分子の検出を確認します。（表2）

表1.　乾燥空気の組成

表2.　ASTON測定条件

Kr 同位体比換算濃度